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微米無掩膜光刻設備

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產品詳情

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企業微信截圖_20220308172556.png

應用場景:封測、芯片基板、HDI、FPC

行業難點:有掩膜、線寬大于20微米、核心器件進口、維護成本高

我司優勢:無掩膜,減少開模費用;核心器件進口,維護成本低;線寬達5微米,精度高。


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應用場景:封測、芯片基板、HDI、FPC

行業難點:有掩膜、線寬大于20微米、核心器件進口、維護成本高

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